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高真空镀膜

  • 成员： 郭泽婧

课题目标

  1. 熟悉磁控溅射系统，了解并掌握高真空的获得与测量方法。
  2. 研究不同工艺参数（溅射功率、溅射时间、基底温度）等对TiN薄膜质量的影响，利用磁控溅射法制备出高温稳定性良好、高导电性、高熔点、高硬度的TiN薄膜。
  3. 研究Ar/N2流量比对TiN薄膜性能的影响。

进展

一、熟悉磁控溅射系统的使用，探究系统可达到的本底真空极限。

  1. 磁控溅射系统概述
  2. 真空系统概述
  3. 系统可以达到的真空度(烘烤前后)

二、对不同真空计(热阴极电离规、冷规、薄膜真空电容计) 进行校准，得到校准曲线

参考资料

1.MINI SPUTTER 使用说明书

  • home/xiaole/projects/thin_film_deposition_in_high_vacuum.1636124352.txt.gz
  • 最后更改: 2021/11/05 22:59
  • 由 郭泽婧