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高真空镀膜
- 成员： 郭泽婧
课题目标
- 熟悉磁控溅射系统，了解并掌握高真空的获得与测量方法。
- 研究不同工艺参数（溅射功率、溅射时间、基底温度）等对TiN薄膜质量的影响，利用磁控溅射法制备出高温稳定性良好、高导电性、高熔点、高硬度的TiN薄膜。
- 研究Ar/N2流量比对TiN薄膜性能的影响。
进展
一、熟悉磁控溅射系统的使用，探究系统可达到的本底真空极限。
- 磁控溅射系统概述
- 该系统主要用于薄膜材料的磁控溅射生长。由进样系统、生长系统、电控系统、进气系统、水冷系统组成。
- 真空系统概述
- 设备配备的真空系统如图所示。
- 探究生长室可以达到的真空度(烘烤前后)
二、对系统真空测量系统、流量监测系统进行校正和调整，使其满足镀膜需求。
- 对不同真空计(热阴极电离规、冷规、薄膜真空电容计) 进行校准，探究不同真空计的适用范围。
- 薄膜真空电容计的测量范围为0.0133Pa-133Pa。
参考资料
1.MINI SPUTTER 使用说明书