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home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/11/23 17:12]
郭泽婧
home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/12/09 15:57] (当前版本)
郭泽婧
行 13: 行 13:
   - 真空系统概述 ​   - 真空系统概述 ​
     * 设备配备的真空系统如图所示。     * 设备配备的真空系统如图所示。
 +    * {{:​playground:​系统示意.png?​150|}}
   - 探究生长室可以达到的真空度(烘烤前后)   - 探究生长室可以达到的真空度(烘烤前后)
 == 二、对系统真空测量系统、流量监测系统、靶枪进行校正或调整,使其满足TiN镀膜需求,进行预实验。== == 二、对系统真空测量系统、流量监测系统、靶枪进行校正或调整,使其满足TiN镀膜需求,进行预实验。==
行 24: 行 25:
       * N2作为工艺气体时,生长室内的压强应≥9.5E-3Torr(1.3Pa),溅射功率为0.08kW时,即可正常启辉。       * N2作为工艺气体时,生长室内的压强应≥9.5E-3Torr(1.3Pa),溅射功率为0.08kW时,即可正常启辉。
       * **注意:在溅射过程中一定要控制好流量,最好不要超过100sccm,避免使分子泵瞬间负载过大。**       * **注意:在溅射过程中一定要控制好流量,最好不要超过100sccm,避免使分子泵瞬间负载过大。**
 +  - 用N2作为工艺气体,用挡板遮住样品台,在溅射功率0.08kW、压强1.3~2.0Pa的条件下,利用产生的等离子体对Ti靶表面进行清洗,约15min。
 +  - 更换进样室插板阀,探究插板阀的内部结构和作用原理。【之前关闭插板阀时用力过大造成插板阀内部连接件损坏】
 +      * 一种插板阀的内部结构示意图。 {{:​playground:​1.png?​50|}} ​
 +      * **注意:关闭插板阀时,感受到向下的阻尼加大,则不要再用力。**
 +== 三、探究不同工艺参数对TiN薄膜表面形貌、性能的影响。==
 +  - 选择不同的基片温度、样品与靶台之间的距离,表征得到的TiN薄膜,进而确定合适的参数值。
  
  
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  • 最后更改: 2021/11/23 17:12
  • 由 郭泽婧