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home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/11/28 21:48]
郭泽婧
home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/12/09 15:57] (当前版本)
郭泽婧
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   - 真空系统概述 ​   - 真空系统概述 ​
     * 设备配备的真空系统如图所示。     * 设备配备的真空系统如图所示。
 +    * {{:​playground:​系统示意.png?​150|}}
   - 探究生长室可以达到的真空度(烘烤前后)   - 探究生长室可以达到的真空度(烘烤前后)
 == 二、对系统真空测量系统、流量监测系统、靶枪进行校正或调整,使其满足TiN镀膜需求,进行预实验。== == 二、对系统真空测量系统、流量监测系统、靶枪进行校正或调整,使其满足TiN镀膜需求,进行预实验。==
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   - 用N2作为工艺气体,用挡板遮住样品台,在溅射功率0.08kW、压强1.3~2.0Pa的条件下,利用产生的等离子体对Ti靶表面进行清洗,约15min。   - 用N2作为工艺气体,用挡板遮住样品台,在溅射功率0.08kW、压强1.3~2.0Pa的条件下,利用产生的等离子体对Ti靶表面进行清洗,约15min。
   - 更换进样室插板阀,探究插板阀的内部结构和作用原理。【之前关闭插板阀时用力过大造成插板阀内部连接件损坏】   - 更换进样室插板阀,探究插板阀的内部结构和作用原理。【之前关闭插板阀时用力过大造成插板阀内部连接件损坏】
-      * 一种插板阀的内部结构示意图。 {{:​playground:​1.png?​50|}}+      * 一种插板阀的内部结构示意图。 {{:​playground:​1.png?​50|}} ​
       * **注意:关闭插板阀时,感受到向下的阻尼加大,则不要再用力。**       * **注意:关闭插板阀时,感受到向下的阻尼加大,则不要再用力。**
 == 三、探究不同工艺参数对TiN薄膜表面形貌、性能的影响。== == 三、探究不同工艺参数对TiN薄膜表面形貌、性能的影响。==
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  • 最后更改: 2021/11/28 21:48
  • 由 郭泽婧