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home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/12/09 15:52] 郭泽婧 |
home:xiaole:projects:thin_film_deposition_in_high_vacuum [2021/12/09 15:57] (当前版本) 郭泽婧 |
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| 行 27: | 行 27: | ||
| - 用N2作为工艺气体，用挡板遮住样品台，在溅射功率0.08kW、压强1.3~2.0Pa的条件下，利用产生的等离子体对Ti靶表面进行清洗，约15min。 | - 用N2作为工艺气体，用挡板遮住样品台，在溅射功率0.08kW、压强1.3~2.0Pa的条件下，利用产生的等离子体对Ti靶表面进行清洗，约15min。 | ||
| - 更换进样室插板阀，探究插板阀的内部结构和作用原理。【之前关闭插板阀时用力过大造成插板阀内部连接件损坏】 | - 更换进样室插板阀，探究插板阀的内部结构和作用原理。【之前关闭插板阀时用力过大造成插板阀内部连接件损坏】 | ||
| - | * 一种插板阀的内部结构示意图。 {{:playground:1.png?50|}} {{ :playground:插板阀运动.mp4 |}} | + | * 一种插板阀的内部结构示意图。 {{:playground:1.png?50|}} |
| * **注意：关闭插板阀时，感受到向下的阻尼加大，则不要再用力。** | * **注意：关闭插板阀时，感受到向下的阻尼加大，则不要再用力。** | ||
| == 三、探究不同工艺参数对TiN薄膜表面形貌、性能的影响。== | == 三、探究不同工艺参数对TiN薄膜表面形貌、性能的影响。== | ||